中華民國第二十二屆國際版畫雙年展

展覽日期│ 2026/07/11－10/18

開放時間│ 週二至週五9:00-17:00、週六至周日9:00-18:00 (周一休館)

展覽地點│ 國立臺灣美術館 101及202展覽室

活動信箱│ print22@art.ntmofa.gov.tw

 

「中華民國國際版畫雙年展」由文化部指導、國立臺灣美術館主辦，自1983年創辦以來，始終以推動版畫藝術創作、促進國際文化交流，以及拓展版畫藝術多元發展為宗旨。歷經四十餘年的持續耕耘，本展不僅見證版畫藝術於不同時代脈絡中的演變，也逐步成為國際版畫創作者交流與對話的重要平臺。本展今年邁入第二十二屆，持續匯聚來自世界各地的藝術創作能量，展現當代版畫藝術豐富而多元的樣貌。

本屆國際版畫雙年展共收到來自81個國家、1,336件作品報名參賽。經初審及複審程序，共有202件作品入圍，最終展出183件作品，其中包含15件得獎作品及168件入選作品。展出作品來自36個國家，呈現出多元文化背景與藝術觀點交會的豐富面貌。其中亞洲與歐洲藝術家參與尤為踴躍，泰國、波蘭、臺灣、中國及印度等國家之作品數量合計占展出作品總數逾半；而15件得獎作品則來自9個不同國家，顯示本展在國際交流與文化多樣性上的豐富成果。由臺灣、美國、日本及比利時評審共同組成的國際評審團，從不同文化視角進行評選，反映本展重視國際交流與多元對話的精神。

綜觀本屆展出作品，可以觀察到來自不同文化背景與視覺傳統的創作實踐在本展交會，呈現出多元而豐富的版畫景觀，但個體經驗、地方記憶、自然環境與當代社會處境等議題則特別且持續的受到關注。許多作品從個人的生命歷程出發，透過家庭、童年、故鄉與文化傳承等元素，探討個體與社會、過去與當下之間的連結；也有藝術家藉由對山川地景、生態環境及自然循環的觀察，反思人與自然之間相互依存的關係，以及當代社會所面臨的環境挑戰。此外，都市空間、科技媒介、文化認同、戰爭創傷與生命存在等議題，亦成為創作者回應當代世界的重要面向，展現從古至今，版畫仍然是反思文化與觀察社會的絕佳媒介。

值得注意的是，本屆展覽亦呈現了版畫媒介特性的持續拓展。除了傳統版種在技法與形式上的深耕之外，部分作品進一步結合複合媒材、空間裝置與立體形式，突破版畫既有的平面框架；同時，攝影影像、數位技術及跨媒材表現的運用亦相當活躍，展現傳統版畫與當代創作方法並存的樣貌。也有創作者透過對印製過程、材料特性、複數性與勞動行為的探討，以媒介實驗與形式轉化，重新思考版畫的可能性與當代意義。
 

本展活動官網：https://printbiennial.ntmofa.gov.tw/