中華民國第二十屆國際版畫雙年展
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中華民國第二十屆國際版畫雙年展

場次資料

場次 場地
中華民國第二十屆國際版畫雙年展
日曆圖案 2022/08/27 09:00 ~ 2022/11/20 18:00
googleMap連結 301、302展覽室(301、302 Gallery) 

活動內容介紹

「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,歷經40年間不懈耕耘,宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,迄今已是第20屆。

 

本屆籌備期間遭逢全球共同面對COVID-19疫情的衝擊,故而開啟了嶄新的趨勢與變革,諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等,在突破疫情影響的轉圜方案下,也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢,開展新的篇章。

 

本屆共收到79國1011件作品報名參賽,歷經初審評審團選出187件入圍作品;再交由複審評審團,由實際到館的入圍作品當中,選出50國180件展出作品,其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎2名、優選獎5名、佳作5名等15件得獎作品,將於今年8月至11月於國立臺灣美術館展出。

 

評審委員們皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等表示高度肯定;而對疫情影響的反思與關注,也成為契合時代氛圍的創作議題,綜觀本屆作品的色調及主題,彷彿也是創作者在呼應疫情時代恐慌心境下的借鑒交融,凝鍊昇華出沉穩、安定的創作量能之撫慰式傳達。

 

本屆得獎者,除了臺灣的藝術家外,亦有來自日本、中國等亞洲國家者;來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者;以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者,精彩呈現不同文化底蘊下,多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。此外,本屆得獎者中,不乏20多歲年輕的藝術家,銘刻新世代創作者的創作脈絡;有趣的是,兩位不約而同地關注了衰敗、時間荏苒流逝的主題,詮釋廢墟美學視角下的辯證。

 

本屆展出作品趨向大尺幅,顯示創作者在主辦單位規定的範圍內盡情發揮至極致的野心,而創作技法涵蓋傳統技法的凸版、凹版、平版、孔版,亦有部份採取數位版及併用版等時代潮流產物下的創新技法,皆可一窺版畫藝術創作的蓬勃動能及在傳承流變下的豐富樣貌。而作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照;或對所處時空的叩問與探詢;或純粹淬鍊於形式上的形象美學,那些多元並蓄的洞察或辯證姿態,皆在創作美學的轉譯下,重塑為美學維度下的光影與色彩。

 

最後,感謝本屆諮詢委員及初審評審團、複審評審團,每位委員挹注的辛勞。其中包括:劉錫權、薛保瑕、呂燕卿、楊明迭、萊絲莉·杜斯貝瑞(Lesley Duxbury)、倪朝龍、謝里法、羅平和、徐文瑞、張家瑀、陳曉朋、高實珩。也衷心感謝來自世界各地參賽者對本展的支持及參與,以及對所有得獎藝術家表示祝賀。期許未來,本展能持續耕耘版畫藝術交流與對話的平臺之角色,共同見證與豐富版畫創作領域的多元樣貌。

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