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中華民國第二十一屆國際版畫雙年展
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中華民國第二十一屆國際版畫雙年展

 


Event Details

 

中華民國第二十一屆國際版畫雙年展

 

展覽日期│ 2024/07/27-10/13

開放時間│ 週二至週五9:00-17:00、週六至周日9:00-18:00 (周一休館)

展覽地點│ 國立臺灣美術館 201-202展覽室

活動信箱│ print21@art.ntmofa.gov.tw

 


 

「中華民國國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,旨在提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展。自1983年開辦至今,經歷逾40年的不懈耕耘,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,今年喜迎第二十一屆。

 

本屆國際版畫雙年展,共收到82國1215件作品報名參賽。亞洲的報名人數幾近半數,其中又以來自臺灣、日本、泰國、印度、中國的參賽者報名最為踴躍;歐洲參賽者則佔報名總人數的四成,尤以今年共有131位參賽者報名的波蘭,榮登本屆報名人數最多的國家。評審過程首先由初審委員們以線上審查的方式,遴選出173件入圍作品。而準時寄達本館並符合本展規範的作品,則進入複審,由國際評審團評選出共計38國163件精彩作品,其中包含金、銀、銅牌獎得主各1名,評審團特別獎2名、優選5名及佳作5名等共15件得獎作品。

 

值得關注的是,在2019年開始的新冠肺炎(COVID-19)疫情,以及2022年俄羅斯、烏克蘭的戰爭影響下,許多創作者不約而同的把主題聚焦於對戰爭、災害的叩問與辯證,對動盪不安、傾頹衰亡感受的描繪與轉譯,並以創造性語彙融合個人的感受與觀察,交融出對社會和人性的洞察;一方面探詢人類文明中衝突與災害不斷重演的悲劇性本質,另一方面,也以淬鍊下的深刻共鳴,在喟嘆、遺憾或無奈中,仍對未來寄託一絲希望與願景。

 

而除了戰爭與災害議題之外,本展也匯聚來自不同文化底蘊下,對社會、生命、時空、自然等諸多議題的多元觀點,創作者以個人的獨特視角和經驗出發,藉由想像、思考、情感的多重激盪,煥發出藝術語彙的豐富演繹,銘刻著多元並蓄的反思,或對純粹形式美學的追求。作品主題的多樣性、技法應用的豐富度、傳統與創新的兼容並蓄,以及創作者們豐沛的創作能量,涵融了本展作為國際性版畫創作交流平台的多元風貌。

 

最後,衷心感謝本屆諮詢委員、初審及複審評審團的委員們:大衛・阿特戈伊帝亞 (David ARTEAGOITIA)、盧卡娜・庫娜維嘉儂 (Luckana KUNAVICHAYANONT)、尼爾斯.卡斯騰 (Nils KARSTEN)、呂燕卿、高實珩、張正仁、張家瑀、梅丁衍、陳曉朋、黃椿元、楊明迭、薛保瑕,感謝他們在此期間挹注的辛勞。也謝謝各國參賽者對本展的持續支持和參與,並衷心祝賀所有的獲獎藝術家。也期待未來「中華民國國際版畫雙年展」能夠更加擴展和深化,作為全球版畫藝術工作者交流與對話的平臺,持續豐富版畫創作的多元風貌。

 

◆本展活動網站 https://printbiennial.ntmofa.gov.tw/

 

 

 

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