「2019年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始
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「2019年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始

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活動內容介紹

國立臺灣美術館2019年數位藝術人才國外駐棧創作開始徵件

為培養國內數位藝術創作人才,提升其國際視野,依國立臺灣美術館「數位藝術人才培育補助作業要點」,藉由公開遴選之機制,補助優秀人才至國外駐棧創作,以提升技術應用與藝術創作之深度與高度,厚植臺灣數位藝術發展實力。

 

本年度徵件日期至108年3月20日止,與本館合作之國外駐棧數位藝術機構如下:

  1. 荷蘭V2_動態媒體藝術實驗室(V2_Lab for the Unstable Media,以下簡稱「V2_」):配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session),於2019年7月至9月間,進行為期6 - 8週之駐棧。

     

  2. 西班牙Medialab Prado媒體藝術實驗室以下簡稱「Medialab):於2019年6月1日至7月14日之間,進行為期至多6週之駐棧。申請者請留意下列事項:
  • 申請者的創作形式,以聲音藝術、自造者、社會設計、生物藝術、錄像藝術等方向為優先考量。
  • 獲選者須與Media Lab之進駐單位合作,共同進行發想、創作與發表。
  • 因駐棧期間較短,申請者須明確列出創作計畫之執行步驟、時程,及創作所需的技術資源。

 

申請對象及條件

  1. 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。
  2. 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術、生物藝術等),至申請截止日前持續創作兩年以上,且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
  3. 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列)。
  4. 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。
  5. 申請前往V2_者,另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範,申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲,或自學校畢業五年以內者
  6. 符合前述(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐站創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。

 

歡迎數位藝術創作者踴躍報名!

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