「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始
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「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始

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「2020年數位藝術人才國外駐棧創作」徵件開始
日曆圖案 2020/02/10 00:00 ~ 2020/03/20 23:59
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活動內容介紹

國立臺灣美術館2020年數位藝術人才國外駐棧創作開始徵件

為培養國內數位藝術創作人才,提升其國際視野,並活絡臺灣與國際間的數位藝術交流互動,依國立臺灣美術館「數位藝術人才培育補助作業要點」,藉由公開遴選之機制,補助優秀人才至國外駐棧創作,以提升技術應用與藝術創作之深度與高度,厚植臺灣數位藝術發展實力。

本年度徵件日期至2020年3月20日止,與本館合作之國外駐棧數位藝術機構如下:

  1. 荷蘭V2_動態媒體藝術實驗室(V2_Lab for the Unstable Media,以下簡稱「V2_」):配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session),於2020年7月至9月間,進行為期6 - 8週之駐棧。
     
  2. 西班牙Medialab Prado媒體藝術實驗室以下簡稱「Medialab):於2020年6月至7月間,進行為期最長達6週之駐棧。


申請對象及條件

  1. 具備中華民國國籍,無兵役或其他法律限制出國者。
  2. 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術、生物藝術等),至申請截止日前持續創作兩年以上,且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
  3. 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者(如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列)。
  4. 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力,且創作計畫獲該機構審核同意者。
  5. 申請前往V2_者,另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範,申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲,或自學校畢業五年以內者
  6. 符合前述(一)至(三)項條件,且已獲國外相關機構同意,將於當年度前往該機構駐站創作者,得向本館申請補助全部或部分經費。
     

歡迎數位藝術創作者踴躍報名!

並至「臺灣數位藝術」網站(http://www.digiarts.org.tw/)線上報名與簡章下載